产品的波长有635nm、650nm、680nm、850nm、808nm、980nm、1310nm及1550nm，

   还可根据客户特定参数特别订做。

美国原厂VCSEL（垂直腔面发射激光器）产品

• VCSELs  EPI晶片及芯片（Single chip、Chips Array）

• 可根据客户用途订做

• GaAs和AlGaAs 780nm、850nm和980nm

• 两种形式：氧化和注入式

新型光学互连元件、光通信用光电元件，光通信专用仪表、设备等。

VCSEL技术及产品

本公司代理的美国原厂VCSEL产品，是目前市场上最好的VCSEL晶片及芯片组之一，采用最前沿的科技和材料，以及工业界中最严格质量控制标准，以确保您获得的产品能够始终如一的保持卓越品质。其品质、价值、创新和客户服务方面都能始终如一的超越客户的期望。

• 是美国首家设计和生产用于商用市场的VCSEL晶片和芯片组的公司

• 可根据客户对VCSEL的特别要求和特定参数来提供特别定制

• 所有的VCSELs由专利VGF技术制成的复合式半导体晶片精制而成，以确保产品的均匀性及可靠品质

• 每个VCSEL均经过严格的性能测试

• 防止非一致性的技术

• 力求提供最佳的品质、创新技术和客户服务

创新的VCSEL技术

VCSEL技术
VCSEL，垂直腔面发射激光器是光通信中的一种深具潜力的固体激光源，被称为新千年最重要的光通信器件。其特征为圆形输出射束，易与光纤耦合，转换效率高，调制速率快，阀值很低，噪声小；垂直腔面很小，易于高密度大规模集成和成管前整片检测。VCSEL还非常适合在光互连、激光打印、气体检测、高密度光存储、显示方面的应用。
VCSELs的运用，使得曾经受控于LEDs或边界发射的激光技术获得更高效率、更大作用以及更高精度。从光驱到多维光导网络，从DVD播放器到动作感应装置，从信息到工业乃至医药市场无数的应用中，VCSEL科技都能实现惊人的成效。VCSELs已完全使光电科技步入更高水平。

了解VCSEL
VCSEL技术革命性的解决了半导体镭射的产生，采用三明治式结构，通过活性层在垂直方向构筑镭射光谐振腔，相干性极高的激光束从顶部射出（如上图示）。VCSELs的制作可采用离子注入或氧化限制工艺。离子注入工艺形成一个阻性区域使电流汇集到活性区。氧化限制工艺提供电流定向和系数控制，以提高效率。

VCSEL优点（与LED及边发射技术的比较见下表）
• 高能量转换率
• 低门限电流（小于1毫安）
• 聚焦好，均匀的圆形光束分布
• 具有测试晶片的装置
• 易于制成阵列
• 与LEDs工艺类似
• 非常稳定的超温性能
• 低EMI/RFI
• 高可靠性
• 多种封装形式

您将如何使用VCSEL技术？

VCSEL技术比LEDs和边界激光发射技术具有更多的先进之处，因此它的用途非常广泛：

•  电信开关

• 数据通讯网络[千兆以太网（LAN）]，存储域网络-光纤通道（SAN），高速I/O（Gbic)，智能图像载波（自由空间连接）

• 自由空间数据传输

• 光存储

• 激光打印机

• 条型码扫描器

• DVD播放器

• 安保光屏障

• 测量设备

• 光电控制

• 流体及气体监测

• 荧光治疗

• 光复印和荧光检测

• 眼科学应用

Shanghai Lusino Communication Co., Ltd

上海市浦东新区张江高科技园区碧波路328号B幢

邮编:  201203